検索に戻る
案件記録
发光二极管外延结构及其制备方法
発明不明
2閲覧数
26請求項 · 2 独立
§ Ⅰ
案件概要
発明者
李森林; 谢岚驰; 赖玉财; 廖寅生
出願日
Jul 22, 2026
公開日
Oct 16, 2026
IPC分類
H10H 20/815 (2025.01)H10H 20/816 (2025.01)H10H 20/01 (2025.01)
本发明提供了一种发光二极管外延结构及其制备方法,包括:由下至上依次位于衬底上的N型欧姆接触层、晶格过渡层、N型窗口层、N型限制层、有源层和P型半导体层,其中N型欧姆接触层为砷化物层,N型窗口层为磷化物层,晶格过渡层包括由下至上依次设置第一晶格过渡层、第二晶格过渡层和第三晶格过渡层中的至少两层;本发明够提升外延层的晶体质量,且提升发光二极管的发光效率。
外部リソース