形成半导体结构的方法、半导体结构和半导体处理系统

提供了一种形成半导体结构的方法，包括：在处理室中，在凹部的侧壁上沉积材料。该方法包括将蚀刻气体提供到处理室中。该方法包括将稀释气体提供到处理室中。该方法包括将等离子体提供到处理室中。