EUV干式显影的方法

本公开的实施方式大体涉及干式显影光刻胶的方法，例如金属‑氧光刻胶。在一或多个实施方式中，提供了一种显影光刻胶的方法，所述方法包括在第一处理工艺中使工件曝露于含有氟化剂的第一处理气体，所述工件包含置于基板上的图案化金属‑氧光刻胶，并停止所述工件对所述第一处理气体的所述曝露。所述方法进一步包括在第二处理工艺中，使所述工件曝露于含有有机酸的第二处理气体，所述第二处理工艺包含重复处理循环一或多次。所述处理循环包括使所述工件曝露于所述第二处理气体，停止所述工件对所述第二处理气体的所述曝露，使所述工件曝露于净化气体，然后停止所述工件对所述净化气体的所述曝露。