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案件記録

掩模用组合物以及刻蚀加工用掩模

発明不明
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9請求項 · 2 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

加藤昌央; 白鸟仁朗

出願日

Mar 27, 2025

公開日

Oct 16, 2026

IPC分類

H10P 50/00 (2026.01)

提供一种关于能够形成膜更厚的掩模的掩模用组合物的技术。本发明的一个方式为掩模用组合物。该掩模用组合物具有金属氢氧化物和溶剂。所述金属氢氧化物分散或溶解于所述溶剂。

外部リソース