一种光响应介孔二氧化硅吸附材料的制备和应用

一种光响应介孔二氧化硅吸附材料的制备和应用，属于分离吸附材料制备技术领域，是以CTAB为模板制备介孔二氧化硅MS，并进行羟基活化得MS‑OH，采用3‑（三乙氧基硅基）丙基异氰酸酯和4‑氨基偶氮苯反应合成光响应分子中间体AB‑TPI，将MS‑OH、AB‑TPI与 UPTES混合反应得光响应介孔二氧化硅吸附材料。本发明有效解决了光响应吸附材料选择性差、选择性提升与光响应效率难以兼顾的技术问题，提高了吸附材料对三唑类物质的吸附选择性，吸附效率显著提高，最大吸附量达到123.742mg/g，经过10次连续吸附‑脱附循环后，材料的可逆吸脱附吸附性能保持在90%以上，具有优异的光调控可逆性与循环复用稳定性。