一种原位监测的激光微纳刻蚀系统与方法

本发明涉及激光刻蚀技术领域，尤其涉及一种原位监测的激光微纳刻蚀系统与方法，原位监测的激光微纳刻蚀系统包括：真空吸附载台，用于固定待刻蚀样品；激光器单元，位于真空吸附载台的上方；用于发射激光并轰击固定在真空吸附载台上的待刻蚀样品；原子吸收光谱单元，位于真空吸附载台的上方，且随激光器单元同步运动；用于接收待刻蚀样品被刻蚀时产生的原子发射光并形成光谱数据；实时监测与深度控制单元，所述实时监测与深度控制单元与激光器单元和原子吸收光谱单元分别进行电连接；实时监测与深度控制单元用于根据光谱数据对激光器单元的参数进行实时调整。该原位监测的激光微纳刻蚀系统能够实现梯度刻蚀，使刻蚀激光的应用更加广泛。