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案件記録
一种超大幅面SLA设备框架结构及调校方法
発明不明
10請求項 · 2 独立
§ Ⅰ
案件概要
発明者
吴杰华; 杨华杰; 吴震; 王小博
出願日
Sep 26, 2024
公開日
Oct 20, 2026
IPC分類
B29C 64/20 (2017.01)B29C 64/386 (2017.01)B33Y 30/00 (2015.01)B33Y 50/00 (2015.01)
本发明属于SLA激光扫描3D打印设备技术领域,具体涉及一种超大幅面SLA设备框架结构及调校方法,包括方通架、激光扫描机构和安装在方通架内部的树脂槽,方通架的内部安装有大理石Z板,方通架的内部安装有大理石基座,方通架的内部安装有导轨板,导轨板的顶部安装有涂铺机构,激光扫描机构安装在大理石光基板的上表面;方通架的底侧设置有地脚,方通架的底侧贯穿连接有内螺纹管,内螺纹管的内部插接有第一螺纹杆。本发明,依次对方通架、树脂槽、大理石Z板、大理石基座、导轨板和大理石光基板进行平面度调节,在现有零件加工工艺的前提下,通过对局部模块精度的控制,得到整体的精度框架,并满足大幅面SLA设备的精度要求。
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