一种具有限位功能的MEMS偏转装置及其制备方法

一种具有限位功能的MEMS偏转装置及其制备方法，其中制备方法包括：提供第一衬底，所述第一衬底包括第一区域与沿第一方向位于所述第一区域两侧的第二区域；在所述第二区域的衬底表面形成第二掩模；在所述第一区域的衬底表面形成层厚小于所述第二掩模层厚的第一掩模，以所述第一掩模和所述第二掩模为掩模刻蚀所述衬底，以在所述第二区域内形成第一驱动结构，并在所述第一区域内形成容置空间以及位于所述容置空间内的初始垂直限位结构；降低所述初始垂直限位结构的高度，形成顶面低于所述第一驱动结构顶面的垂直限位结构。本发明通过利用同一掩模将可动结构的容置空间和垂直限位结构同时制备，在提高垂直限位结构的精度和稳定性的同时，降低工艺成本。