一种光固化离型膜及其制备方法

本发明属于离型材料技术领域，具体涉及一种光固化离型膜及其制备方法。该离型膜包括基材和离型层，离型层由含有端丙烯酸酯聚二甲基硅氧烷、侧丙烯酸酯有机硅树脂、丙烯酸酯改性MQ硅树脂及有机硅改性光引发剂的无溶剂光固化组合物经光固化形成；其制备方法包括基材双面电晕处理与除尘、微凹版涂布、斜角UV固化及冷却收卷。本发明实现了剥离力宽范围可调，同时抑制了硅转移与剥离力爬升，保证了涂层固化均匀性与基材附着力，所得离型膜兼具高残余粘着率、低离型力爬升、无擦脱及良好外观的特点，适用于标签、胶带等压敏胶制品的离型保护及光学、电子领域的工艺载体离型膜。