一种真空蒸镀设备及其控制方法

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种真空蒸镀设备及其控制方法。该真空蒸镀设备包括蒸镀机构和承载机构，蒸镀机构的加热组件和蒸发源容纳于镀膜腔，承载机构包括驱动组件、承载组件和多个角度调节组件，驱动组件包含转动架和驱动其转动的驱动件，承载组件包括环形轨道、多个滚轮和多个承载盘，环形轨道固设于镀膜腔内，滚轮与环形轨道配合，各承载盘分别与对应的滚轮同轴固定，多个角度调节组件与多个滚轮一一对应设置，每个角度调节组件均包括安装座和连接板，连接板一端与滚轮转动连接，另一端与安装座铰接；本申请满足不同曲率或形状基底的蒸镀需求。