一种低应力、高钼含量钴钼合金镀层的制备方法及应用

本发明提供了一种低应力、高钼含量钴钼合金镀层的制备方法，该方法为：将以下终浓度的原料加入至去离子水中：柠檬酸三钠0.1~0.3 mol/dm、CoSO·7HO 0.05~0.2mol/dm、NaMoO·2HO 0.01~0.03 mol/dm，得到电镀液，对工作电极进行反向脉冲电沉积，得到镀层样品；参数包括：阴极脉冲电位：‑1300～‑1200 mV；阳极脉冲电位：‑500～‑300mV；阴极脉冲时间：5~15 s；阳极脉冲时间：100~300 ms；总沉积电荷密度：13~80 C/cm；冲洗、吹干，在工作电极表面得到具有低应力、高钼含量钴钼合金镀层。还提供了应用，制备的钴钼合金镀层作为工作电极，用于碱性电解水析氢反应。本发明的钴钼合金镀层无裂纹、低应力、纳米晶结构稳定，克服了直流电沉积镀层易开裂、脆性大的技术瓶颈，提高了镀层的致密性、机械稳定性和催化性能。