刻蚀设备及刻蚀系统

本发明提供了一种刻蚀设备及刻蚀系统，通过旋转托举模块实现晶舟旋转和/或非对称升降，结合反应釜内高度方向温度差，双重驱动刻蚀流体流动，强化流体交换，利于及时带走刻蚀副产物；沉降区可收集颗粒物，泄压模块采用速率渐增式泄压，规避釜内涡流，减少泄压过程热胀冷缩带来的温度扰动；配合供应模块、控温模块稳定构建超临界水刻蚀环境，提升晶圆刻蚀的均匀性与工艺稳定性。