负载锁定室中的吹扫

公开了经由吹扫过程从位于负载锁定室中的晶片表面除去残留物或从负载锁定室内部除去污染物。所公开的系统包括负载锁定室、配置成将吹扫气体提供到负载锁定室中的注入系统、配置成从负载锁定室除去气体的排气系统以及控制器。控制器可以通过以下从负载锁定室除去污染物和/或残留物：控制注入系统以在负载锁定室内部提供吹扫气体来增加负载锁定室内部的室压力，控制排气系统以从负载锁定室除去气体并减少室压力，然后控制注入系统以在负载锁定室内部提供吹扫气体并增加室压力。