分析方法和分析装置

本发明的一个方式涉及的分析方法，包括：第一测定步骤，对于在主面设有由凹部和凸部构成的凹凸结构、且所述凹部的内周面具有与所述主面平行的底面以及与所述主面垂直的侧面的试样，将所述试样与分析器配置成从所述分析器的检测方向观察时能够看到所述底面的第一位置关系，通过所述分析器对所述试样被照射激发光而释放出的光电子进行测定；以及第二测定步骤，将所述试样与所述分析器配置成从所述分析器的检测方向观察时能够看到所述侧面的第二位置关系，通过分析器对所述试样被照射激发光而释放出的光电子进行测定。