一种用于光学元件加工的抛光执行机构

本发明公开了一种用于光学元件加工的抛光执行机构，包括自上而下依次连接的力控模块、往复运动模块和旋转抛光模块；力控模块对作用于光学元件表面的抛光力进行实时调节与控制，以保证抛光过程中的受力稳定性与一致性，往复运动模块为抛光提供主运动形式，驱动旋转抛光模块往复运动，并协同旋转抛光模块的旋转运动实现对光学元件的抛光。本发明通过姿态补偿与音圈电机的高动态响应与高控制精度作用于力反馈闭环调节过程，提升了系统对抛光力误差的快速响应与精确修正能力，显著增强系统的抗扰动能力；通过往复运动与旋转运动的叠加，提高抛光轨迹的均匀性，避免单一运动方式引起的周期性误差，从而提升加工一致性。