一种化学机械抛光系统

本发明公开了一种化学机械抛光系统，其包括：前置单元；抛光单元；以及清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；所述抛光单元包括多个抛光模块和抛光传输机构，所述抛光模块围绕所述抛光传输机构设置；所述清洗单元包括多个后处理模块和清洗传输机构，所述后处理模块竖向层叠以形成层叠模组，所述层叠模组沿清洗单元的横向和纵向交错设置，所述清洗传输机构设置于所述层叠模组的侧部。