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案件記録

一种点阵式硅胶保护膜及其制备方法和在石墨烯膜防护中的应用

発明不明
10請求項 · 3 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

付远武; 乐明

出願日

Jul 23, 2026

公開日

Oct 27, 2026

IPC分類

C09J 7/25 (2018.01)C09J 183/04 (2006.01)C09D 183/04 (2006.01)C09D 183/07 (2006.01)C09D 183/05 (2006.01)C09D 7/61 (2018.01)C09D 7/63 (2018.01)C09D 7/65 (2018.01)

本发明属于功能薄膜与电子防护材料技术领域,具体涉及一种点阵式硅胶保护膜及其制备方法和在石墨烯膜防护中的应用。该保护膜包括PET基材及复合于其上的硅胶层,硅胶层表面涂覆有机硅强化涂层,并具有通过辊压成型的微米级凸点点阵。其制备方法包括基材预处理、涂布强化涂层、辊压成型及后定型等步骤。针对现有保护膜难以兼顾贴合稳定性与无损剥离的缺陷,本发明利用微米级点阵将连续接触界面转化为离散的应力响应单元,改变剥离前沿的裂纹扩展行为。在确保贴合牢固的前提下,该结构将等效剥离力大幅降低并控制在石墨烯层间内聚强度阈值之下,有效避免分层或撕裂等损伤。本发明工艺简便,可实现无残胶无损剥离,适用于高敏感薄膜的保护。

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