一种等离子体处理设备、自由基浓度调节方法及应用

本申请涉及一种等离子体处理设备、自由基浓度调节方法及应用，该等离子体处理设备包括：管体，所述管体用于容纳工艺气体并形成等离子体反应空间；屏蔽结构，所述屏蔽结构围绕所述管体设置；分体式线圈，所述分体式线圈围绕所述屏蔽结构设置，包括线圈主体、连接件和导电件，所述导电件、所述连接件和所述线圈主体依次电连接形成射频电流回路；所述连接件夹持所述线圈主体的位置可改变，以调节所述线圈主体相对于所述管体的径向位置；所述导电件与所述连接件沿所述管体轴向的相对位置可调节，以调节所述线圈主体沿所述管体轴向的位置。从而可以实现对自由基浓度的灵活调节，改善工艺表现。