検索に戻る
案件記録

一种基于离子注入还原的氧化镓PIN二极管及制备方法

発明不明
10請求項 · 2 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

韩仕达; 吕元杰; 王元刚; 刘宏宇; 韩婷婷; 敦少博; 冯志红

出願日

Aug 15, 2025

公開日

Oct 27, 2026

IPC分類

H10D 8/01 (2025.01)H10D 8/50 (2025.01)H10D 62/00 (2026.01)H10D 62/10 (2025.01)H10D 62/80 (2025.01)H10P 30/20 (2026.01)H10P 30/28 (2026.01)

本发明提供一种基于离子注入还原的氧化镓PIN二极管及制备方法,涉及氧化镓器件技术领域。本发明能够通过将重掺杂n型氧化镓衬底作为N层,在重掺杂n型氧化镓衬底上制备I层,在I层上进行p型离子注入,并利用还原性气体高温退火激活注入离子实现p型掺杂,得到P层。还原性气体通过还原反应将氧化镓内的氧原子析出,使注入的p型离子占据氧的晶格格点,并夺取镓原子的电子,形成空穴,实现p型离子注入掺杂,降低p型掺杂氧化镓制备难度。再制备阴极电极、阳极电极,降低氧化镓PIN二极管的制备难度。

ログインして全文を読む

請求項 1 を表示しています。無料登録で全 10 項の請求項、明細書全文、全図面、翻訳、法的状態を閲覧できます。

  • 全請求項
  • 技術分野
  • 背景技術
  • 発明の概要
  • 図面の説明
  • 発明を実施するための形態

外部リソース