案件記録

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS

発明審査中

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§ Ⅰ

案件概要

出願人

Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

発明者

FUKUSHIMA, Masahiro; WATANABE, Satoshi; FUNATSU, Kenji; MASUNAGA, Keiichi; KOTAKE, Masaaki; MATSUZAWA, Yuta

出願日

Jun 24, 2025

公開日

Jan 6, 2026

IPC分類

G03FG03F

CPC分類

G03FG03FG03FG03F

外部リソース