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案件記録

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS

発明審査中
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§ Ⅰ

案件概要

出願人

Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

元の名称記録: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. · すべての特許を表示特許出願人の記録

発明者

FUKUSHIMA, Masahiro

出願日

Jun 24, 2025

公開日

Jan 6, 2026

IPC分類

G03FG03F

CPC分類

G03FG03FG03FG03F

外部リソース

Google PatentsEspacenet