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案件記録
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS, AND RESIST UNDERLAYER FILM FORMATION PROCESS
発明審査中
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§ Ⅰ
案件概要
発明者
Kobayashi, Naoki; Kori, Daisuke; Yano, Toshiharu
出願日
Jun 24, 2025
公開日
Jan 6, 2026
IPC分類
G03FC08F
CPC分類
G03FG03FC08F
外部リソース