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색인된 특허 기록 1건

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抗指纹组合物、抗指纹膜及其制备方法

本申请公开了一种抗指纹组合物、抗指纹膜及其制备方法，抗指纹组合物以质量百分数计，原料包括30%~80%的聚硅氧烷类化合物以及20%~70%的硅烷偶联剂；聚硅氧烷类化合物包括线性聚硅氧烷以及异构聚硅氧烷中的一种或两种，线性聚硅氧烷中的端基每次出现各自独立地为甲基、乙基、异丙基、异丁基或甲氧基，线性聚硅氧烷中的侧基每次出现各自独立地为甲基或乙基，线性聚硅氧烷的数均分子量为580~6000。通过对聚硅氧烷类化合物以及硅烷偶联剂的搭配使用，充分利用特定分子量和/或特定结构的聚硅氧烷类化合物与硅烷偶联剂形成后良好的杂糅，利用上述的防指纹组合物形成的防指纹膜具有良好的良好疏水效果以及耐磨性。

❖维达力科技股份有限公司于歌; 古禄建; 刘莎莎; 何流; 许仁; 洪磊; 李灿坤§ 3/10 청구항C08L 83/04 (2006.01), C23C 14/12 (2006.01), C23C 14/26 (2006.01) +619

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