원래 이름 기록: 河南联合精密材料股份有限公司

本发明涉及一种多晶金刚石膜的抛光方法，属于金刚石加工技术领域。本发明的多晶金刚石膜的抛光方法，包括以下步骤：（1）粗磨：将待加工的多晶金刚石样品采用铸铁研磨盘搭配10‑20µm水性金刚石研磨液进行加工；（2）精磨：将粗磨后的多晶金刚石样品采用铸铁研磨盘搭配3‑6µm水性金刚石研磨液进行加工；（3）粗抛：将精磨后的多晶金刚石样品采用紫铜抛光盘搭配0.5‑1µm水性金刚石抛光液进行抛光加工；（4）精抛：将粗抛后的多晶金刚石样品采用紫铜抛光盘搭配50‑80nm水性金刚石抛光液进行抛光加工。本发明采用的无腐蚀性金刚石抛光液，能有效减少对抛光设备的损害，降低设备的维护成本和更换频率，延长设备的使用寿命，降低了设备投入成本，更易于实现工业化应用。

本发明属于研磨工具技术领域，公开了一种专用于TEC陶瓷制冷片的研磨垫及其制备方法，解决现有TEC热制冷片加工过程中的加工效率低、清洗难等问题。一种专用于TEC陶瓷制冷片的研磨垫，包括底材和设置在底材上的若干平顶面的研磨块，所述研磨块的原料组分包括金刚石‑碳化硅磨料、粘结剂、氧化铝团聚体、气相SiO和填料。本发明研磨垫在加工TEC制冷片过程中具有稳定性好、磨抛效率高和表面质量优异的优势。此外，相较于传统研磨垫，本发明中的研磨垫在研磨整体结构上，做出进一步的改进，在研磨垫的底部增加了一层阻尼布，在研磨过程中起到缓震的作用，防止研磨过程中导致制冷片中间的金属锡焊产生微裂纹，影响产品性能以及良率。