№ CN122952858A발명
알 수 없음刻蚀设备及刻蚀系统
本发明提供了一种刻蚀设备及刻蚀系统,通过旋转托举模块实现晶舟旋转和/或非对称升降,结合反应釜内高度方向温度差,双重驱动刻蚀流体流动,强化流体交换,利于及时带走刻蚀副产物;沉降区可收集颗粒物,泄压模块采用速率渐增式泄压,规避釜内涡流,减少泄压过程热胀冷缩带来的温度扰动;配合供应模块、控温模块稳定构建超临界水刻蚀环境,提升晶圆刻蚀的均匀性与工艺稳定性。
❖上海谙邦半导体设备有限公司万永东; 陈刚; 方文强; 徐承权; 王东泽Oct 20, 2026§ 2/13 청구항H10K 71/20 (2023.01)