원래 이름 기록: 瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司

本申请涉及一种具有含氧桥环结构的聚合物及其制备方法、包含该聚合物的光刻胶及制备方法和光刻图形。含氧桥环结构的聚合物制备包括如下原料：具有含氧桥环结构的丙烯酸单体；含有极性基团丙烯酸单体；侧链含有脱保护基团的丙烯酸单体；制备方法包括：溶解、加热反应、纯化、烘干等步骤；光刻胶包括如下各组分：含氧桥环结构的聚合物、光致产酸剂、酸扩散抑制剂、有机溶剂。本申请的光刻胶通过引入含氧桥环、脂环结构和极性基团，改善了显影对比度和溶解性，具有良好的粘附性和耐蚀刻性能。

本申请涉及ArF光刻胶技术领域，具体公开了一种含甘油缩酮类(甲基)丙烯酸酯的共聚物及其制备方法、ArF光刻胶及应用。一种含甘油缩酮类(甲基)丙烯酸酯的共聚物，以mol%计，包括以下组分：45‑60mol%的A单体、35‑55mol%的B单体、5‑15mol%的C单体，所述A单体为侧链包含内酯的(甲基)丙烯酸酯单体，所述B单体为侧链含有保护基团的(甲基)丙烯酸酯单体，所述C单体为侧链含甘油缩酮类(甲基)丙烯酸酯单体。本申请的含甘油缩酮类(甲基)丙烯酸酯的共聚物可用于ArF光刻胶制备，其具有分辨率高、图像形貌好、化学性能稳定等优点，且对线宽粗糙度（line width roughnrss，LWR）实现意外优化的效果。