이름 기준 검색 결과이며 법적 주체의 동일성을 확인한 것이 아닙니다. 동명인·조직, 별칭 및 이전 이름을 자동 통합하지 않습니다.

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색인된 특허 기록 1건

특허 건수는 이 사이트에 수록된 중복 없는 특허 기록 수이며 출원인의 전체 특허 수가 아닙니다. 공동 명의 문자열은 단일 기업을 뜻하지 않습니다.

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一种真空蒸镀设备及其控制方法

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种真空蒸镀设备及其控制方法。该真空蒸镀设备包括蒸镀机构和承载机构，蒸镀机构的加热组件和蒸发源容纳于镀膜腔，承载机构包括驱动组件、承载组件和多个角度调节组件，驱动组件包含转动架和驱动其转动的驱动件，承载组件包括环形轨道、多个滚轮和多个承载盘，环形轨道固设于镀膜腔内，滚轮与环形轨道配合，各承载盘分别与对应的滚轮同轴固定，多个角度调节组件与多个滚轮一一对应设置，每个角度调节组件均包括安装座和连接板，连接板一端与滚轮转动连接，另一端与安装座铰接；本申请满足不同曲率或形状基底的蒸镀需求。

❖托弗祺芯（上海）半导体有限公司白阳阳; 郑宗培Oct 20, 2026§ 2/10 청구항C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/26 (2006.01), C23C 14/30 (2006.01) +2