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색인된 특허 기록 1건

특허 건수는 이 사이트에 수록된 중복 없는 특허 기록 수이며 출원인의 전체 특허 수가 아닙니다. 공동 명의 문자열은 단일 기업을 뜻하지 않습니다.

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高性能抛光片用聚氨酯抛光层材料及其制备方法

本发明公开的高性能抛光片用聚氨酯抛光层材料及其制备方法，由以下重量份数的原料制备而成：六亚甲基二异氰酸酯的三聚体100～150份、聚醚多元醇150～200份、扩链剂50～60份、发泡剂2～3份、磨料添加剂80～100份、催化剂5～10份；聚氨酯抛光层的制备分三步进行：第一步、异氰酸酯预聚物的制备，第二步、抛光片前驱体的制备，第三步、抛光层的制备。本发明实现了高硬度、高耐磨且结构稳定的半导体芯片加工用聚氨酯抛光片抛光层的制备，有望为当下半导体芯片的加工提供新的抛光材料。

❖陕西聚合优威新材料科技有限公司欧阳丽; 巫云龙; 王明; 刘亚丽§ 1/9 청구항C08G 18/66 (2006.01), C08G 18/48 (2006.01), C08G 18/10 (2006.01) +1010