№ CN122940106A발명
알 수 없음硅压阻芯片单电桥结构自补偿方案的方法
本发明提供硅压阻芯片单电桥结构自补偿方案的方法,属于硅压阻芯片技术领域。包括以下内容:S1:选用晶向单晶硅作为芯片衬底基材,之后进行预处理工作;S2:根据传感器目标压力量程,采用湿法腐蚀或干法刻蚀工艺,进行敏感膜制备;S3:采用扩散硅工艺或SOI工艺,对压阻条掺杂成型;S4:划分敏感膜边缘高应力区与边缘内侧次高应力区,进行差异化分区布局。本发明通过创新型单电桥差异化结构自补偿设计,从而突破传统硅压阻芯片的固有技术短板,并依靠纯物理结构实现共模干扰全域抑制,使得整个过程无需算法补偿、无需改造硬件结构与封装工艺,相较于现有各类压力传感器具备显著技术优势与产业化价值。
❖胤翔微电科技(海南)有限公司王薇迦; 董珂含; 李蕾; 李随安; 李蓓; 王琪; 吕丽萍Oct 20, 2026§ 1/10 청구항B81C 1/00 (2006.01), G01L 9/06 (2006.01)