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本发明涉及一种将温度调节中空结构（22）结合到EUV投射曝光设备的反射镜（10）的基板（12）中的方法，包括以下步骤：（A）提供由基板材料12a构成的基板（12）；（B）将处理光束（46）逐渐聚焦到将要产生温度调节中空结构（22）的加工位置（54）上，使得基板材料12a在加工位置（54）处被烧蚀，其中邻近加工位置（54）产生改性的基板材料（58），其相对于基板材料12a具有增加的蚀刻敏感性；（C）在执行步骤（B）的同时将冲洗流体（82；82.1）施加到加工位置（54），由此冲洗掉被烧蚀的基板材料。在步骤（D）中，在执行步骤（B）的同时将蚀刻介质（80）施加到加工位置（54），其中蚀刻介质（80）在加工位置（54）处表现出蚀刻效果，并通过蚀刻过程去除存在于那里的改性的基板材料（58）。本发明还涉及用于执行该方法的处理系统（40），以及用于制造光学元件（8）的方法和基板（12）以及光学元件（8）。另外，本发明涉及一种半导体技术设备（6）和一种结构化的电子部件（224）。

本发明涉及一种制造投射曝光设备、尤其是EUV投射曝光设备（100）的光学元件的反射镜基板（201、301、401、501）的方法，该反射镜基板包含第一部件（202、402、502）和至少一个第二部件（204、304、404、504），其中该第一部件（202、402、502）和该至少一个第二部件（204、304、404、504）至少在面向连接部（211、308、408、508）的一侧由硅构成，且该方法包含以下步骤：提供/制造该反射镜基板（201、301、401、501）的至少两个部件（202、402、502、204、304、404、504），以及通过加热到接合温度并优选地垂直于接合表面（203、205、403、405、503、505）施加接合压力来接合所述至少两个部件（202、402、502、204、304、404、504）。

本发明涉及一种用于确定样品在可绕旋转轴线旋转的样品台上的取向的方法。该方法包括：a）将样品相对定位在第一位置；b）使样品相对于高度传感器旋转通过第一旋转角度；以及c）在旋转期间使用高度传感器重复测量样品的第一高度。在该过程中，为了测量第二高度的目的，还针对至少一个第二位置执行步骤a）至c）。

本发明涉及一种光学系统（300），其具有多个可致动光学元件（310）和多个用于致动和/或感测光学元件（310）的致动器/传感器装置（200），该光学系统具有用于为光学系统（300）的多个电负载（500，L1‑L12）提供供电电压（VS）的供电装置（400），该供电装置包括多个N个供电轨（410‑440）与相应电源单元（450）的并联连接，其中N≥3，其中N个供电轨（410‑440）的相应电源单元（450）被设置为在供电装置（400）无故障运行时在供电节点（K1‑K4）的输出侧提供预定的电源单元输出功率（P1），并且在故障运行时在供电节点（K1‑K4）的输出侧提供预定的电源单元输出功率的倍数（P2）。

本发明涉及一种用于制造光刻设备（1）的光学系统（100）的方法，其中光学系统（100）包括具有光学有效表面（106）和基板（104）的光学部件（102），所述方法包括：a）为一个或多个光学部件（102、202a、202b、202c）的基板（104'、204a、204b、204c）提供（S2）作为基板（104'、204a、204b、204c）的位置(r)的函数的相应基板（104'、204a、204b、204c）的热膨胀系数（p'）的零交叉温度（ZCT'、ZCT、ZCT、ZCT）的相应归一化分布函数（g、h、h、h），b）以计算机实现的方式为每个提供的分布函数（g、h、h、h）和彼此不同的多个预定的平均零交叉温度（M）确定（S3）光学系统（102）的成像误差（F），以及c）将待制造的光学部件（102）的基板（104）的至少一个选择的平均零交叉温度（M）确定（S4）为多个平均零交叉温度（M）中所确定的成像误差（F）小于预定阈值（SW）的那个平均零交叉温度。

本文描述的公开内容涉及一种用于分析用于光刻的掩模的方法，包括：对准所述掩模的空间像（I）和所述掩模的掩模设计（ML），以形成所述空间像（I）和所述掩模设计（ML）的叠加；其中CD阈值确定区域（501）和CD测量区域位于所述空间像（I）内；使用空间像（I）和掩模设计（ML）的叠加确定CD阈值确定区域（501）中的CD阈值；使用所述空间像和所确定的CD阈值来测量所述CD测量区域中的临界尺寸CD。此外，该方法可以包括：使用所述掩模设计（ML）确定所述CD测量区域中的目标CD；将所测量的CD与所确定的目标CD进行比较。本公开同样涉及对应的计算机程序、对应的装置和对应的系统。

本发明涉及一种部件，特别是光学元件（Mi）或结构部件部分，包括：主体（25），包括流体可流过的中空结构，该中空结构具有多个冷却通道（31）、流体分配器（33）和流体收集器（34），其中，为了将流体供应到冷却通道（31），流体分配器（33）包括连接通道（33b），该连接通道通向与入口开口（29）连接的公共入口通道（33a），和/或其中，为了从冷却通道（31）排出流体，流体收集器包括连接通道，该连接通道通向与出口开口连接的公共出口通道。根据本发明的一个方面，所述入口通道（33a）具有从邻近入口开口（29）的连接通道（33b'）开始减小的流动横截面（A）和/或所述出口通道具有从邻近出口开口的连接通道开始减小的流动横截面。

本发明涉及一种反射镜系统，其包括具有对EUV辐射具有高反射率的光学表面（32）的EUV反射镜，并且包括承载反射镜系统的系统部件的框架结构（39）。所述框架结构包括结构体（40）和插入件（42），所述插入件（42）由热性能与所述结构体（40）的材料的热性能不同的材料构成。在结构体中形成用于温度调节流体的流体通道（41）。插入件（42）在反射镜系统的操作期间暴露于热负荷。插入件（42）横向于流体通道（41）的方向跨越轮廓线（44），使得流体通道（41）的横截面部分（49）容纳在轮廓线（44）内。本发明还涉及包含这种反射镜系统的微光刻投射曝光设备。

本发明涉及一种用于驱动致动器（200）的驱动装置（100），该致动器用于致动光学系统（4、10）的光学元件（310），该驱动装置具有放大器（110），该放大器被配置为在输入节点（K1）处接收所提供的电源电压（V1）并在输出节点（K2）处为致动器（200）提供驱动电压（V2），以及耦合到输入节点（K1）以提供供电电压（V1）的供电装置（120），该供电装置具有串联电路（130），该串联电路可耦合在输入节点（K1）和接地（GND2）之间，该串联电路由多个N个DC/DC转换器（131‑133）构成，其中N≥2，用于提供相应的DC电压，以及由数量M个另外的DC/DC转换器（141）构成，其中M≥1，该另外的DC/DC转换器可与串联连接（130）串联连接，用于提供DC电压。