模型投影方法、系统、电子设备、存储介质及程序产品
本公开涉及计算机技术领域,尤其涉及一种模型投影方法、系统、电子设备、存储介质及程序产品。其中,该方法包括:监听投影光源,得到当前光源信息,其中,当前光源信息包括光源位置、光源角度;根据当前光源信息、地板位置以及目标模型的三维尺寸和模型位置,确定目标模型的投影尺寸;在目标场景中创建投影尺寸对应的地板平面,以在地板平面上投影目标模型。采用上述方案的本公开可以在能够完整展示模型投影的基础上,降低模型投影的性能消耗。
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색인된 특허 기록 14건