半导体装置及半导体装置的制造方法
一种半导体装置,包含:芯片,其由宽带隙半导体形成,并具有形成了第一导电型的半导体区的主面;第二导电型的基底杂质区,其形成于所述半导体区的表层部;第一杂质区,其形成于所述基底杂质区的表层部;以及第二杂质区,其形成于所述基底杂质区的表层部,且导电型与所述第一杂质区相反,所述第二杂质区在第一方向上与所述第一杂质区相邻,所述第二杂质区形成为在与所述第一方向正交的第二方向上延伸的带状,所述第二杂质区具有:凸部,其在所述第一方向上选择性地向所述第一杂质区突出。
APPLICANTS
원본 출원인 이름 및 가져온 특허의 원래 이름 필드를 확인합니다.
이름 기준 검색 결과이며 법적 주체의 동일성을 확인한 것이 아닙니다. 동명인·조직, 별칭 및 이전 이름을 자동 통합하지 않습니다.
원래 이름 필드 전체와 정확히 일치하는 기록입니다. 여러 출원인 또는 다른 역할의 당사자가 포함될 수 있습니다. 이름 경계와 법적 주체는 미확인이며 구두점을 분리하지 않습니다.
색인된 특허 기록 3건
특허 건수는 이 사이트에 수록된 중복 없는 특허 기록 수이며 출원인의 전체 특허 수가 아닙니다. 공동 명의 문자열은 단일 기업을 뜻하지 않습니다.
검증된 수록 기간과 마지막 가져오기 시간은 현재 제공되지 않습니다. 공개일은 가져오기 날짜가 아닙니다. 캐시로 인해 새 기록의 표시가 지연될 수 있습니다.
로컬 원본 출원인 필드에 이 전체 문자열이 포함된 기록을 검색합니다. 공동 명의나 더 긴 이름이 포함될 수 있으며 정확한 주체 검색이 아닙니다.
이 출원인 조건으로 특허 검색