원래 이름 기록: 璞璘科技（杭州）有限公司

本发明涉及微纳制造技术领域，具体是一种纳米压印模版抗粘处理设备，包括反应腔室与抗粘试剂输送系统，可在同一腔室内完成模板表面等离子活化、抗粘试剂定量输送、低温气相沉积全过程；通过喷胶阀与多级阀控系统实现微升级试剂精确控制，结合加热蒸发皿实现低温成膜，避免高温损伤柔性模板，等离子原位活化增强表面反应活性，提升抗粘层附着力。本发明解决了传统设备工艺分散、膜层不均、兼容性差等问题，显著提高抗粘层质量与模板使用寿命，适用于半导体、光学器件等领域的高精度纳米压印工艺。

本发明公开了一种纳米压印用基板定位装置属于纳米压印技术领域，包括定位机构，用以对基板中心点位置进行定位调节，吸附机构，用以对定位调节后的基板进行吸附定位，切换机构，用以对完成定位调节后的定位盘进行复位并切换吸盘二位置；本发明通过设置切换机构，相比传统机械手抓移动、放置的三步操作模式，通过定位机构与吸附机构的协同设计，实现定位与吸附的无缝衔接，减少中间搬运步骤，缩短单块基板的定位时间，适配批量生产的连续作业需求，消除位移风险消除搬运环节的精度损耗，同时避免了传统搬运中振动、惯性或路径误差导致的定位偏移。