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根据本公开的示例实施例提供了用于辅助图形优化的方法、设备和存储介质。该方法包括获取初始掩模图案，初始掩模图案包括主图形和至少一个初始辅助图形；获取多个候选辅助图形组，多个候选辅助图形组中的一个候选辅助图形组包括与主图形对应的至少一个候选辅助图形；确定多个候选辅助图形组的相应成像成本；以及基于多个候选辅助图形组的相应成像成本，确定用于优化初始掩模图案的至少一个目标辅助图形。以此方式，可以提高掩模图案在不同工艺条件下的成像性能。

根据本公开的实施例，提供了用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质。该方法包括：确定针对具有至少一个突出结构的基板的模拟光信号，模拟光信号指示光经过掩模后在基板上形成的信号；确定针对基板的拓扑信号，拓扑信号与至少一个突出结构相关联；以及基于模拟光信号和拓扑信号，确定针对基板的光刻信号。由此，可以考虑到至少一个突出结构与光刻胶的堆叠对在基板上的信号的影响，这有助于提高光刻信号的准确性。