특허 출원인 기록

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색인된 특허 기록 1건

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薄膜及其制备方法、光学器件和光电器件

本申请提供了一种薄膜及其制备方法、光学器件和光电器件。该薄膜包括交联聚合物，所述交联聚合物包括聚合物单元以及与所述聚合物单元连接的光响应基团。所述交联聚合物能够在第一波长的光线照射下发生解交联反应生成聚合物基体和光响应交联单体；所述交联聚合物能够在第二波长的光线照射或者催化剂作用下，所述聚合物基体发生交联反应生成所述交联聚合物，所述第二波长与所述第一波长不同。可提升薄膜的质量。

❖烟台京东方材料科技有限公司; 京东方科技集团股份有限公司郭远辉; 张亚斌; 张力文; 张旭泽; 关帅; 迟鹏利Oct 20, 2026§ 4/15 청구항G02B 1/04 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01), C08L 33/12 (2006.01) +125