用于芯片测试的探针及其制作方法
本发明公开了一种用于芯片测试的探针及其制作方法。该探针具有探针主体,探针主体包括中芯层和包围于中芯层外围的外周层;外周层包括一层或多层第一金属材料层,分别独立选自镍、钛、钨及其合金;中芯层包括一层或多层第二金属材料层,分别独立选自金、银、铜、铂、钯及其合金。制作时,于基片表面形成兼具种子层功能的牺牲层,经多次光刻和MEMS沉积工艺,制作具有中芯层和外周层分部的探针结构。本发明通过外周层与中芯层的异质材料复合,兼顾了探针的导电性与耐磨性,与传统单一金属材料组成的探针结构相比,通过多次电镀获得的该结构,可以实现探针耐流能力的大幅提高,并且制造难度低,工艺兼容性好。