검색으로 돌아가기
기록
一种锗氟化过程中氟化氢杂质的去除方法及装置
발명유효
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
朱海林; 陈义武; 田红安; 王伟; 任先锋; 万晓净; 范晓玉; 刘杰
IPC 분류
B01D 53/04 (2006.01)B01D 53/00 (2006.01)B01D 5/00 (2006.01)B01J 7/00 (2006.01)C01G 17/04 (2006.01)
本发明提供一种锗氟化过程中氟化氢杂质的去除方法及装置,所述方法包括:获取含有氟化氢杂质的氟气气体;对所述含有氟化氢杂质的氟气气体进行吸附处理,去除部分氟化氢杂质,得到初步处理后的氟气气体;将所述初步处理后的氟气气体与锗粉发生反应,得到含有氟化氢杂质的四氟化锗气体;将所述含有氟化氢杂质的四氟化锗气体依次经过冷凝、闪蒸纯化、再冷凝和吸附处理,得到净化后的目标四氟化锗气体,所述目标四氟化锗气体中的氟化氢含量低于预设值。本发明的方案可以高效去除四氟化锗气体中的氟化氢杂质。
로그인하고 전문 읽기
청구항 1을 표시했습니다. 무료 가입하면 전체 10개 청구항, 명세서 전문, 전체 도면, 번역, 법적 상태를 볼 수 있습니다.
- 전체 청구항
- 기술 분야
- 배경 기술
- 발명의 내용
- 도면 설명
- 발명의 실시 형태