水溶性胶涂布设备

本发明公开了一种水溶性胶涂布设备，涉及点胶设备技术领域，解决了现有点胶机对晶圆进行遮蔽胶涂布时存在稳定性差、涂布效果差等问题。其包括：基座；桁架；晶圆治具盘;X轴移动模组和Y轴移动模组，被配置为分别用于控制晶圆治具盘沿着X轴和Y轴两个相互垂直的方向移动，以配合CCD点胶组件在保证同心度的情况下对晶圆表面进行遮蔽胶涂布；第一Z轴升降模组和第二Z轴升降模组，用于分别控制等离子组件和CCD点胶组件升降移动；等离子组件；CCD点胶组件。本发明的涂布设备具有自动化程度高、稳定性强、涂布效果好等优点，避免了因喷胶阀沿着圆形轨迹而产生的离心力，导致遮蔽胶被甩到晶圆表面上涂布区以外的区域，保证遮蔽胶涂布尺寸在公差范围之内。