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기록

一种半导体行业废水处理系统及配置方法

발명유효
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ

개요

IPC 분류

C02F 9/00 (2023.01)C02F 101/20 (2006.01)C02F 101/14 (2006.01)C02F 1/52 (2023.01)C02F 1/00 (2023.01)C02F 1/44 (2023.01)

本申请公开了一种半导体行业废水处理系统及配置方法,包括超滤装置、反渗透装置及二者间的气液分离装置,该系统利用切向进流组件配合旋流区内的导流组件强制流体旋转下降,通过离心力分离超滤出水中的微气泡;利用扫气组件释放保护气体以置换析出气体并降低溶解氧;通过出液组件中顶部封闭且侧壁开孔的防涡构件,物理阻断液面气泡进入下游。该半导体行业废水处理系统有效解决了因微气泡及高溶解氧导致的高压泵气蚀、反渗透膜气阻与氧化污堵问题,显著提升了系统稳定性并延长设备寿命。

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