一种用300～600nm波段激光背面湿法刻蚀熔石英的方法及装置

本发明公开了一种用300～600nm波段激光背面湿法刻蚀熔石英的方法及装置，属于激光微纳加工技术领域。本发明方法通过将532nm激光脉冲聚焦于透明熔石英样品背面，并在其与酸性红1号水溶液接触区域产生光破坏区，利用酸性红1号水溶液对532nm波长激光具有较高吸收性的特点，在无需外加吸收层的条件下实现材料的局部刻蚀，最终以光破坏区为中心在熔石英表面形成圆形微结构；本发明装置采用聚四氟乙烯材料制成，具备耐化学腐蚀性，并通过高位注液通道实现稳定液面控制，保障刻蚀均匀性与重复性。相比传统红外激光刻蚀方式，本发明工艺更为简单，并可制备边缘清晰、表面粗糙度低的微结构阵列，适用于光学器件的微纳加工。