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기록
一种半导体级超净高纯异丙醇的制备工艺
발명유효
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
李少平; 吴清鹏; 刘尚文; 贺兆波
IPC 분류
C07C 29/76 (2006.01)C07C 31/10 (2006.01)
本发明公开一种半导体级异丙醇连续纯化系统及工艺,针对传统工艺中重金属离子等痕量杂质脱除不彻底等问题,集成了气态吸附脱水、双塔精馏及三级离子交换等步骤,形成新型工艺。原料异丙醇经汽化、气态吸附脱水后,通过多级滤芯过滤;随后进入精馏系统脱除轻、重组分杂质;之后依次通过除硼、除重金属离子交换树脂床以及混床树脂床,脱除痕量的硼元素及阴阳离子;最终经终端过滤,得到半导体级异丙醇。经本发明方法获得的异丙醇,主含量≥99.995wt%,硼含量≤7ppt,各项金属元素含量≤3ppt,可用于晶圆表面的干燥和清洗。
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