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기록

一种含硅抗反射涂层溶液组合物及其制备方法与应用

발명유효
10청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

王艺诺; 江景赞

IPC 분류

C09D 183/04 (2006.01)C09D 7/63 (2018.01)G03F 7/11 (2006.01)

本发明属于光刻技术领域,涉及一种含硅抗反射涂层溶液组合物及其制备方法与应用,所述含硅抗反射涂层溶液组合物包括聚硅氧烷树脂、附着力促进剂、催化剂以及溶剂。本发明不增加额外的工艺步骤,直接在聚硅氧烷树脂溶液中添加相应附着力促进剂,不对Si‑ARC其它性能有较大影响的同时,增强了光刻胶的附着力,同时简化了对树脂设计的要求。

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