沉积掩模及用于制造其的方法和电子装置

提供了一种沉积掩模及用于制造其的方法和电子装置。沉积掩模包括：掩模基底，包括半导体晶圆；第一涂覆膜，在掩模基底上；以及第二涂覆膜，在第一涂覆膜上，并且包括交替地布置的孔图案和掩模图案，其中，孔图案的上部宽度小于孔图案的下部宽度。