검색으로 돌아가기
기록

一种凹槽结构刷式电化学抛光金属表面处理方法

발명유효
10청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

李静春; 朱玲; 梁丽雪; 于辉刚; 梁德柱; 郑贵福

IPC 분류

C25F 3/16 (2006.01)C25F 7/00 (2006.01)

一种凹槽结构刷式电化学抛光金属表面处理方法,涉及一种电化学抛光方法,为了解决现有的电抛光方法在应对狭小回槽结构时,抛光效果差的问题。本发明将石墨电极插入待抛光工件的凹槽;将石墨电极与电源负极相连,待抛光工件与电源正极相连,并以30A/dm至70A/dm的电流密度、18℃至60℃的温度,对待抛光工件凹槽往复刷抛60s至120s;刷抛后立即用与工件同材质、同凹槽结构且经过相同工艺参数抛光的对比试样,通过粗糙度仪比对,判定粗糙度是否小于或等于粗糙度阈值,如果是,则抛光完成;否则重复上述刷抛步骤。有益效果为很好的将电抛光方法应对在狭小回槽结构中,并且抛光效果好,抛光精度高,节省复合电解液。

로그인하고 전문 읽기

청구항 1을 표시했습니다. 무료 가입하면 전체 10개 청구항, 명세서 전문, 전체 도면, 번역, 법적 상태를 볼 수 있습니다.

  • 전체 청구항
  • 기술 분야
  • 배경 기술
  • 발명의 내용
  • 도면 설명
  • 발명의 실시 형태