同位素生产固态靶装置

本发明涉及同位素生产技术领域，具体提供一种同位素生产固态靶装置，旨在解决现有同位素生产固态靶装置的质子束流需要穿过水墙才能辐照于第二Mo100靶片上，因此，造成质子束流能量降低，进而降低同位素Mo99和同位素Tc99m的产能问题。为此目的，本发明的固态靶装置包括加速器、操作箱、第一靶片、第二靶片和水冷机构；第一靶片和第二靶片设置于操作箱的内部；水冷机构包括水冷腔、多个散热器和供水组件；水冷腔的内部形成有水墙，多个散热器等距安装于水冷腔的内部。本申请的同位素生产固态靶装置，通过设置多个散热器，穿过散热器内部的质子束流无需穿过水墙，避免质子束流的能量损失，提高同位素Mo99和同位素Tc99m产能。