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泛半导体行业含氟废水处理方法和系统

발명유효
6조회수
10청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

张友德; 李志猛; 周亮; 王涛; 房乐乐

IPC 분류

C02F 1/52 (2023.01)C02F 1/56 (2023.01)C02F 101/14 (2006.01)C02F 103/34 (2006.01)

一种泛半导体行业含氟废水处理方法和系统,属于水处理技术领域。本发明的深度除氟絮凝复合剂组合物包括:含铝无机化合物,能够释放出Al与F形成AlF沉淀;高分子聚合物,用于形成絮凝作用;以及,纳米二氧化钛。本发明的深度除氟絮凝复合剂组合物及含氟废水处理方法能够高效处理泛半导体行业含氟废水,各项污染物指标均能满足甚至优于现行严格的排放标准;实现了含氟废水中氟元素的高效消除;本发明的AI驱动的智慧厂务系统可以实现废水处理过程的智能化控制和故障预警,减少了人工干预和运维成本。