一种离子注入辅助湿法工艺选择性刻蚀铌酸锂的方法

本发明提供一种离子注入辅助湿法工艺选择性刻蚀铌酸锂的方法，包括：在铌酸锂表面上制备一层金属粘附层；在金属粘附层的表面旋涂一层光刻胶层；制备图形化的金属粘附层与光刻胶层的掩膜层；制备电荷吸收层；通过多次离子注入对需刻蚀区域的铌酸锂进行改性刻蚀；离子注入的能量范围在0.5~20 MeV，注入剂量范围在1×10~1×10ions/cm；铌酸锂刻蚀的图形深度随离子注入重复次数加深，直至获得所需铌酸锂刻蚀结构；去除表面电荷吸收层并采用湿法刻蚀工艺去除注入后的损伤区域；在刻蚀后，将表面的掩膜层去除。该方法通过离子注入辅助湿法刻蚀工艺，对需刻蚀的铌酸锂进行内部改性，提升其刻蚀速率，从而实现铌酸锂优异高效的刻蚀速率与高精度刻蚀效果。