一种用于化学气相沉积设备的加热装置和化学气相沉积设备

本申请涉及化学气相沉积设备领域，公开了一种用于化学气相沉积设备的加热装置和化学气相沉积设备，其中的用于化学气相沉积设备的加热装置包括竖轴，所述竖轴的底端固定安装有横梁。本申请具有以下优点和效果：便于电阻加热器、感应加热器、红外加热器三种加热方式的灵活切换，可适配多种材质半导体晶片的化学气相沉积需求，可兼容多温度区间加工需求，还满足不同沉积的加热需求，而且能够控制两个隔热箱以竖轴为中心在反应腔内往复性旋转，确保半导体晶片各区域受热均匀，提升对导电承载架上放置的半导体晶片加热的均匀性和全面性，有效降低半导体晶片上沉积薄膜厚度偏差，进而提升对半导体晶片进行化学气相沉积处理的品质。