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기록
流阻调整机构、分气装置及方法和半导体器件的加工设备
발명유효
8조회수
10청구항 · 4 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
李旭峰
IPC 분류
F16L 41/03 (2006.01)F16L 41/16 (2006.01)F16L 41/18 (2006.01)H10P 72/00 (2026.01)C23C 16/455 (2006.01)C23C 16/54 (2006.01)C23C 16/52 (2006.01)
本发明公开了一种流阻调整机构、分气装置、分气方法和半导体器件的加工设备。该流阻调整机构包括:第一管路,其管路内的横截面为第一图形;第二管路,套接于第一管路的外部,且第二管路内的横截面为第二图形,第一图形和第二图形为具有有限条对称轴的轴对称闭合平面图形,工艺气体从第一图形与第二图形的重叠管径内流通,其中,通旋转第二管路和/或第一管路改变重叠管径的交叉截面积,以调节流经重叠管径的工艺气体的流阻;真空接头,设于第一管路和第二管路的连接端,通过旋紧以固定第一管路和第二管路。本发明能够降低各分气支路中流阻调整的复杂性,且不会破坏管路的洁净环境,还能提高各分气支路中气体流阻调节的精确性。