掩模板面型调整方法及装置

本申请提供一种掩模板面型调整方法及装置，涉及光刻技术领域。所述曝光方法包括：提供一掩模板，将掩模板安装于吸盘的一侧；吸盘包括至少两个吸附区域；吸盘还包括调整区域，调整区域设置有通孔，通孔内设置有调整模块；通过气压控制模块分别向至少两个吸附区域提供吸附力，根据预设的第一目标面型信息对掩模板的面型进行调整；根据预设的第二目标面型信息通过调整模块向掩模板施加垂直于掩模板所在平面的方向的拉力或推力，以对掩模板的面型进行调整，如此，可以提高掩模板面型调整的效率和准确性，从而有利于提升光刻效率。